一种基于OPC技术的光刻图像修正方法、装置及存储介质

本实施例提供的方案中一种基于OPC技术的光刻图像修正方法、装置及存储介质。其方法通过光刻成像模型拟晶圆不同跨层曝光过程，获取每层材料光刻图像的预测结果；将目标版图作为光刻成像模型的输入，进行OPC修正，对预测结果进行修正，输出修正后的Mask版图文件；通过OPC verify设立检查项，对修正后的Mask版图文件进行像素点EPE检查以及修正后的Mask的准确性检查，输出最优修正后的Mask版图文件。有效解决了如何减小CD Loss以及有效减小人工修正方式造成的Short风险的技术问题。