选择性催化还原反应器单通道的建模方法

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选择性催化还原反应器单通道的建模方法
申请号:CN202411650509
申请日期:2024-11-19
公开号:CN119517200A
公开日期:2025-02-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了选择性催化还原反应器单通道的建模方法,所述反应器的内部设有多个SCR单通道,催化涂层包围主通道,催化涂层内部有许多孔道,催化剂活性位点上吸附氨气分子和进行选择性催化还原反应,建模方法包括:S1:建立SCR单通道数学模型,包括主通道中气相物质的组分平衡方程、动量平衡方程、焓平衡方程,催化涂层中气相组分平衡方程、焓平衡方程、NH3覆盖平衡方程,气相‑涂层交界面的组分平衡方程、气焓平衡方程;S2:给定初始条件和边界条件、限定部分未知参数,代入各方程中,得到封闭的方程组。本发明建立的模型可求得氮氧化物转换率,从而评估反应器的减排性能。考虑了传质限制和催化剂温和老化程度的影响,评估更准确。
技术关键词
建模方法 涂层 方程 催化还原反应器 铜基分子筛催化剂 速率 气相 表达式 圆筒状结构 氮氧化物转换率 孔道结构 氨气 一氧化氮氧化 理想气体常数 数学模型 正弦波
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