应用于光电半导体硅片的退火温度控制方法

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应用于光电半导体硅片的退火温度控制方法
申请号:CN202411659313
申请日期:2024-11-20
公开号:CN119179354B
公开日期:2025-02-25
类型:发明专利
摘要
本申请涉及温度控制技术领域,具体涉及一种应用于光电半导体硅片的退火温度控制方法。所述方法包括:对所述光电半导体硅片在退火过程中的温度数据进行预处理,获取温度预处理数据集;根据所述温度预处理数据集,获取温度隶属度函数;根据所述温度隶属度函数,对所述光电半导体硅片的退火温度进行模糊控制。本申请利用模糊PID控制算法能够克服调节信号非线性波动的问题,提高光电半导体硅片退火温度控制的精确度和实时性,从而提高半导体器件的性能和可靠性。
技术关键词
隶属度函数 温度控制方法 模糊控制系统 硅片 数据 光电 特征值 模糊规则库 稳态 模糊推理规则 PID控制算法 温度控制技术 误差 聚类 坐标系 半导体器件 非线性 加热器
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