一种透过大光学厚度散射介质成像的方法

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一种透过大光学厚度散射介质成像的方法
申请号:CN202411716706
申请日期:2024-11-27
公开号:CN119688650B
公开日期:2025-10-21
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种透过大光学厚度散射介质成像的方法,应用于包括依次配置的目标/针孔目标、大光学厚度散射介质的成像装置,大光学厚度散射介质的光学厚度小于或等于12;方法包括:成像装置中配置为目标时,采集0°、45°、90°和135°的目标散斑图;成像装置中配置为针孔目标时,采集0°、45°、90°和135°的点扩散函数散斑图;对采集的目标散斑图进行独立成分分析得到目标偏振信息;对采集的点扩散函数散斑图进行独立成分分析得到点扩散函数偏振信息;利用解卷积算法对目标偏振信息和点扩散函数偏振信息进行解卷积操作实现目标的成像。本发明解决了透过大光学厚度散射介质后散射光场信息的信噪比低导致目标难以成像的问题。
技术关键词
点扩散函数 散斑图 独立成分分析 矩阵 成像装置 卷积算法 介质 概率分布函数 准直透镜 针孔 检偏器 探测器 光阑 计算机 光源 散射光 信噪比
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