一种基于多目标激光清洗参数的优化方法和系统

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一种基于多目标激光清洗参数的优化方法和系统
申请号:CN202411719113
申请日期:2024-11-28
公开号:CN119203619A
公开日期:2024-12-27
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种基于多目标激光清洗参数的优化方法和系统,其中,本发明实施例通过初始化设置多个激光清洗参数集合,每个集合对应不同的清洗目标;通过仿真模拟评估所述激光清洗参数集合对所述清洗目标的影响效果,构建效果评价矩阵;采用多目标优化算法解决所述清洗目标之间的冲突,根据所述效果评价矩阵调整所述激光清洗参数集合,得到目标激光清洗参数集合;当所述目标激光清洗参数集合中出现关键清洗目标达成的情况后,选择具有最优综合性能的激光清洗参数作为最终优化结果;本发明提供的技术方案提供了更科学和全面的优化手段,提高了清洗质量和参数优化的效率,实现了高效、智能的激光清洗参数优化过程。
技术关键词
清洗参数 激光 性能指标数据 综合性 矩阵 能耗 存储组件 无损伤 化学分析仪器 仿真模型 统计分析方法 能量消耗 算法 计算机存储介质 图像处理技术 风速 粗糙度 基材
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