MEMS惯性芯片及其制备方法

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MEMS惯性芯片及其制备方法
申请号:CN202411725974
申请日期:2024-11-28
公开号:CN119637801A
公开日期:2025-03-18
类型:发明专利
摘要
本发明涉及惯性器件技术领域,提供了一种MEMS惯性芯片,包括ASIC晶圆和MEMS惯性器件,还包括TEC,所述TEC、所述ASIC晶圆以及所述MEMS惯性器件依次叠层设置,所述MEMS惯性器件包括盖体和活动单元,所述ASIC晶圆和所述盖体配合密封所述活动单元。本发明还提供一种MEMS惯性芯片的制备方法。ASIC晶圆作为MEMS惯性器件的下盖,通过键合即可实现MEMS惯性器件的活动单元的机械保护和密封,无需单独额外制备下盖结构,有效简化工艺,同时有效降低集成芯片的尺寸与体积。将MEMS惯性器件与TEC集成,能够有效控制器件外围的温度环境,降低器件的温度效应,降低器件的标度因子、零偏等参数随温度的变化,进而提高器件的性能。
技术关键词
MEMS惯性器件 PN结 惯性器件技术 信号 P型掺杂层 下盖结构 盖体 控制器件 集成芯片 通孔 叠层 绝缘 效应 机械 参数 尺寸
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