套刻标记不对称程度计量方法、装置、系统及存储介质

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套刻标记不对称程度计量方法、装置、系统及存储介质
申请号:CN202411732232
申请日期:2024-11-29
公开号:CN119575763A
公开日期:2025-03-07
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种套刻标记不对称程度计量方法、装置、系统及存储介质,其中基于光学成像系统采集待测目标结构的图像,得到离散采样信号;通过预设算法处理,确定套刻标记的初步中心位置,进而建立分析函数,并对分析函数进行泰勒展开得到各分析项;分析项用于体现待测目标结构中套刻标记的不对称性;统计全局项和局部项,分别根据各分析项对应的误差偏移计算套刻标记不对称性中几何偏移量。利用泰勒展开实现在全局和局部层面上精确量化套刻标记不对称性,实现无损测量手段,量化了目标结构的细微不对称性,不仅提升了不对称形的识别精度,还能用于消除由于不对称性引入的测量误差,提升套刻标记测量的准确度。
技术关键词
套刻标记 计量方法 光学成像系统 浅沟槽隔离 可读存储介质 信号特征 机械抛光 计量装置 采样模块 测量误差 处理器 偏差 代表 算法 分析模块 图像 存储器
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