光刻模型的建立方法、装置、设备、介质及产品

本申请公开了一种光刻模型的建立方法、装置、设备、介质及产品，应用于光刻技术领域。本方法先两个最佳的预设平面位置；然后基于实际关键尺寸与仿真关键尺寸之间的偏移信息，对最佳预设聚焦平面位置进行补偿。进一步再基于线宽差值确定目标计量平面位置；最终基于目标聚焦平面位置以及目标计量平面位置，建立光刻模型。本实施例所提方案，通过确定偏移信息并对最佳预设聚焦平面进行补偿，消除了实际物理曝光与模型仿真之间的误差，再进一步重新确定最优的计量平面位置，从而能够得到光刻模型准确的建立参数，保证了光刻建模的准确性以及效率。