一种基于解析法将高斯光整形为线光束的方法

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一种基于解析法将高斯光整形为线光束的方法
申请号:CN202411935140
申请日期:2024-12-26
公开号:CN119556492A
公开日期:2025-03-04
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光学应用技术领域,公开了一种基于解析法将高斯光整形为线光束的方法,包括以下步骤:S1建立输入高斯光束和输出线光束的数学模型,明确输出线光束的形状参数与Uout(x,y)之间的关系、S2推导相位补偿函数,借助解析法推导出SLM需要加载的相位补偿函数、S3相位函数加载到SLM,利用SLM对光束相位进行调制的特性核对相位调制的准确性、S4光束整形与验证。本发明中,能够根据具体的光束参数和目标形状,精确地计算出相位图案,具有更好的普适性。无论是不同波长、束腰半径的高斯光束,还是不同宽度、长度和光强分布要求的线光束,都可以通过解析法计算出相应的相位图案加载到SLM上,从而实现高效、精确的光束整形。
技术关键词
高斯光束整形 光束分析仪 输出线 介质折射率变化 空间光调制器调制 数学模型 参数 透镜组 数据处理单元 光强 波长 束腰 分辨率 棱镜 光学系统 关系 图案
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