一种半球谐振子高精度等质量密度修形方法

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一种半球谐振子高精度等质量密度修形方法
申请号:CN202411950104
申请日期:2024-12-27
公开号:CN119714235B
公开日期:2025-10-28
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种半球谐振子高精度等质量密度修形方法,包括如下步骤:通过多位置检测分析确定半球谐振子中心锚柱的轴线方位,作为测量基准;测量外球面、内球面的三维轮廓点云坐标和相对轴线基准的偏心坐标,建立外球面、内球面实际轮廓模型;确定修形区域和对应去除厚度,建立三维修形去除模型;对外球面、内球面的待修形区域采用刻蚀方法进行三维连续修形去除加工;根据外球面和内球面截面圆的中面直径和厚度分布评价修形结果。本发明可以实现半球谐振子三维球壳的质量修调,通过对外球面和内球面的联合质量修形,能够得到质量密度分布的相较对称的半球谐振子,有利于提高半球谐振陀螺的精度。
技术关键词
半球谐振子 修形方法 坐标 球面轮廓 密度 点云 刻蚀方法 截面轮廓 半球谐振陀螺 基准 多位置 轮廓模型 偏心 圆心 数据 掩膜 连线 螺旋
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