摘要
本发明属于半导体加工技术领域,公开了用于光刻对准测量的空域回归网络及其使用方法,空域回归网络,包括多个3x3的卷积层,每个卷积层后都接有BN层和ReLU激活函数,每两个卷积操作后使用一个最大池化层;每两个卷积操作之间设有一个残差块结构;最后一个卷积层后设有全连接层。本发明的空域回归网络可以自动拟合多种误差源的误差模型并将其消除,减低测量误差;可以处理各类复杂对准信号和/或图形。
技术关键词
网络
光刻
误差模型
对准标记
位移台
测量误差
掩膜
滤波器
半导体
图像
条纹
硅片
相机
信号
成像
环形
数据
系统为您推荐了相关专利信息
一体控制系统
保温系统
太阳能发电模块
保温模块
风力发电模块
铁路供电线路
视频监测系统
深度Q网络
特征提取单元
多模态信息
孤独症谱系障碍
视频采集模块
卷积神经网络模型
图像识别单元
分析模块
时间序列预测模型
计算方法
水流
加权特征
注意力
状态观测器
模型预测电流控制
参数优化设计
轮缘
永磁