曝光系统

本申请提供了一种曝光系统，包括：曝光光源，设置于曝光平面上方且其光轴沿第一方向设置；背光光源，设置于曝光平面下方且其光轴与曝光光轴同轴设置；二向镜，沿第三方向看，二向镜沿第一方向和第二方向之间所形成的锐角或直角的角平分线设置；曝光光路能够完全透射二向镜，背光光路沿第一方向传播且能够被二向镜反射以沿第二方向传播；第一方向和第二方向相交叉，且第一方向和第二方向均与第三方向相垂直。本申请提供的曝光系统，在硅片完成曝光位置纠偏后无需再进行转移即可进行曝光作业，从而能够避免纠偏后、曝光前还会出现位置偏差的情况，亦能避免实用高精度转运装置，以在实现高精度曝光的同时节省设备成本。