暗室成像设备

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暗室成像设备
申请号:CN202421944048
申请日期:2024-08-12
公开号:CN223400800U
公开日期:2025-09-30
类型:实用新型专利
摘要
本申请提供一种暗室成像设备,其包括箱体和成像模组,箱体具有暗室空间,成像模组设置于箱体,并用于对暗室空间内的印迹膜进行成像,箱体具有上盖、底座和闭盖检测器件,上盖能够相对底座打开和关闭,并在关闭时屏蔽外界的光线进入暗室空间,闭盖检测器件设置于底座和上盖中的至少一者,用于检测上盖是否关闭。通过闭盖检测器件检测上盖是否关闭,可以减少上盖关不严等问题出现的可能性。
技术关键词
成像设备 暗室 检测器件 成像模组 遮光件 交互装置 发光组件 台阶 底座 疏水膜 箱体 凹槽 芯片 承载件 密封件 安装槽 电路 环状 颜色
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