清洁基站

本申请涉及清洁设备技术领域，尤其涉及一种清洁基站，包括基站底座、清洗盘和抽污结构，基站底座具有供清洁机器人进入的基站腔，清洗盘设置于基站腔内，清洗盘具有排污槽，抽污结构设置于基站底座上，用于抽取排污槽内的脏污，还包括喷水结构，喷水结构活动地设置于基站底座上，被配置为向清洗盘内喷水，并在清洗盘内形成喷水活动轨迹，以对清洗盘进行清洁。能够增大对清洗盘的清洗范围，减少用水量，且减少甚至避免存在清洗死角，提高清洗效果，而且活动设置的喷水结构可使得喷水结构在数量较少的情况下完成较大范围的清洗，降低成本也可减少空间的占用，有利于实现清洁基站的小型化设计。