一种可真空下补充坩埚料源的电子束蒸发设备

本实用新型涉及一种可真空下补充坩埚料源的电子束蒸发设备，包括真空蒸发腔，真空蒸发腔内设有蒸发源以及坩埚承载台，真空蒸发腔的一侧设有真空辅助腔，真空辅助腔与真空蒸发腔之间设有活动密封挡板，真空辅助腔内设有存放台，真空辅助腔内还设有转送机构，所述转送机构包括升降台和转动装配在升降台上的机械臂，机械臂的尾端具有转送叉，机械臂配置有伸缩驱动电机，转送叉在跟随机械臂动作的行程中具有移动至存放台上的第一取放位，还具有在活动密封挡板打开后伸至坩埚承载台上的第二取放位，所述真空蒸发腔与真空辅助腔上各自配置有真空系统。补充料源方便，结构简单，防护性高。