外延膜缺陷确定

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外延膜缺陷确定
申请号:CN202480027568
申请日期:2024-10-04
公开号:CN120981900A
公开日期:2025-11-18
类型:发明专利
摘要
一种方法包括以下步骤:由处理设备获得包括外延膜的基板的第一图像数据。所述方法进一步包括以下步骤:向所述第一图像数据应用频域过滤器以获得经过滤的图像数据。所述方法进一步包括以下步骤:通过对所述经过滤的图像数据执行特征检测,确定所述第一图像数据中表示的外延缺陷的数量。所述方法进一步包括以下步骤:根据外延缺陷的所述数量执行校正动作。
技术关键词
外延缺陷 透射电子显微术 图像 过滤器 光学显微术 数据 基板 校正 训练机器学习模型 氮化镓 砷化镓 氮化铝 碳化硅 蚀刻 介质 警报 存储器 参数 指令
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