一种半导体制造机台的控制方法及系统

本发明提供一种半导体制造机台的控制方法及系统，涉及半导体技术领域，包括获取设备腔室的运行参数，建立包含制造成本、制造质量和制造效率的多目标优化模型。采用深度强化学习算法训练该模型，生成优化预测结果。将预测结果与目标参数进行偏差分析，并将偏差特征向量输入基于长短期记忆网络构建的补偿量计算模型，生成补偿控制指令。将补偿指令输入多目标优化模型，采用动态权重分配的多目标优化算法计算最优参数组合，生成参数调节指令。最终，将调节指令发送至执行单元，实现半导体制造过程的自适应反馈调控，从而降低制造成本，提高制造质量和制造效率。