摘要
本发明公开了一种半导体器件清洗路径规划预警方法和系统,属于计算机数据信息处理技术领域;该方法包括获取待清洗半导体器件表面参数数据,归一化处理后生成综合特征向量,并构建三维表面模型;对表面区域进行分割,并生成n个清洗单元;n为清洗单元数量,n为自然数;采用路径规划算法生成清洗路径;启动清洗并实时监测半导体器件表面参数,动态调整清洗参数和清洗路径;利用清洗后表面信息与目标特征值的匹配结果,识别未清洗区域,并优化清洗路径至清洗完成;本发明能够实现半导体器件激光清洗过程的实时预警,确保清洗过程中与目标特征值保持一致,而且能够灵活处理复杂表面,避免重复清洗与能量浪费,提升整体效率。
技术关键词
半导体器件清洗
半导体器件表面
三维表面模型
清洗单元
预警方法
清洗半导体器件
图像特征向量
清洗参数
反射率
计算机数据信息处理技术
路径规划算法
特征值
动态
多光谱成像设备
聚类分割方法
深度强化学习算法
区域分割算法
系统为您推荐了相关专利信息
仿真模型
检测预警方法
超声波传感器
变压器故障预警
检测预警系统
三相不平衡度
多特征融合算法
皮尔逊相关系数
电压
单相电流
早期预警方法
多光谱成像设备
双通道卷积神经网络
反射率
环境监测站
问答对数据
数据集构建方法
数据集构建系统
大语言模型
清洗单元