磁控溅射托盘及磁控溅射装置

本发明提供了一种磁控溅射托盘及磁控溅射装置，属于微纳磁传感芯片制备及镀膜技术领域。该磁控溅射托盘包括：基底；承载组件，位于基底表面的中间部位，适用于承载被磁控溅射的样品；以及两组定位组件，对称分布于承载组件的两侧，并被构造成对永磁铁进行定位的形状，以使永磁铁能够提供作用于样品的平行于基底表面的静磁场，使得样品上磁控溅射的磁性多元合金薄膜具有单轴磁各向异性。