一种纳秒激光退火装置

本发明涉及半导体制造工艺及设备技术领域，具体涉及一种纳秒激光退火装置，能够实现激光退火设备的小型化且保证激光工艺的稳定性，提高技术可靠性和产品的优良率。本发明基于10.6μm长波激光进行晶圆退火，实现激光退火设备的小型化；将温度转换单元和采集设备结合使用，并通过自动控制单元进行反馈调节，使退火工艺流程稳定可靠，可以做到稳定的ns级退火工艺，具体采用采集设备收集红外辐射，进行纳秒级别的红外辐射温度测量，并结合自动控制单元，调控激光脉冲能量，保证激光工艺的稳定性，提高技术可靠性和产品的优良率。