摘要
本发明公开了一种双栅射频开关器件,涉及射频开关技术领域。本发明包括SOI晶圆的衬底层、埋氧层以及器件层;器件层包括源端、漏端、体端一、体端二、栅端一、栅端二;源端和漏端分布于单个NMOS开关器件的两边;体端一、体端二、栅端一以及栅端二分布在源端和漏端的中间;栅端一分布于体端一的上部;栅端二分布于体端二的上面。本发明基于SOI工艺设计的双栅NMOS开关器件方案不仅可以有效减小射频开关芯片的版图面积,相同设计指标情况下可以减少30%到35%的射频版图面积,有效减少芯片成本,提升芯片的竞争力。同时,双栅NMOS开关器件的导通阻抗也会明显减小,有效提高射频开关电路的低频插损性能。
技术关键词
射频开关器件
NMOS开关器件
版图面积
射频开关技术
射频开关芯片
射频开关电路
SOI工艺
衬底层
指标
端口
间距
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