一种在金刚石表面异质外延的氧化镓及其制备方法

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一种在金刚石表面异质外延的氧化镓及其制备方法
申请号:CN202510126686
申请日期:2025-01-27
公开号:CN119877099A
公开日期:2025-04-25
类型:发明专利
摘要
本发明属于半导体芯片生产技术领域,具体的说是一种在金刚石表面异质外延的氧化镓及其制备方法,包括:衬底;晶体器件;所述衬底采用金刚石材料,所述晶体器件采用氧化镓材料;所述晶体器件采用异质外延技术生长在衬底表面;通过采用异质外延的技术,金刚石晶圆的制造,要求纯度高、晶相一致、杂质少、尺寸大;氧化镓也要制造出大尺寸的材料,也要和金刚石相同的尺寸,充分利用氧化镓的超低成本优势和电子迁移率、耐低温等特性和金刚石的特性结合起来,研发出新型异质结构的大功率、高散热、超低温、高频率、低价格的功率和频率芯片,实现性能非常好的功率和频率芯片;其中异质外延要设计出外延的层数、结构、材质、工艺等。
技术关键词
晶体器件 异质 薄片 清洗金刚石 氧化镓材料 氧化镓薄膜 衬底 芯片 超声波清洗器 单晶金刚石 金刚石材料 MPCVD设备 外延技术 微波等离子体 金刚石薄膜 原子层沉积 光刻胶
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