一种基于曲率动态模糊曝光技术提高DMD数字光刻平滑度的方法

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一种基于曲率动态模糊曝光技术提高DMD数字光刻平滑度的方法
申请号:CN202510140462
申请日期:2025-02-08
公开号:CN119805877B
公开日期:2025-07-04
类型:发明专利
摘要
本发明涉及DMD器件成像曝光技术领域,特别是涉及一种基于曲率动态模糊曝光技术提高DMD数字光刻平滑度的方法,包括:选定待处理曝光图像;对所述待处理曝光图像进行分割,获取若干子图像;计算所述子图像的斜率,并基于所述斜率设计位移路径;基于所述位移路径计算所述子图像的局部膨胀,并对所述子图像进行预处理;对预处理后的子图像进行曝光,获取完整的曝光图像。本发明可以有效地曝光高保真度的复杂图像。
技术关键词
DMD光刻系统 成像曝光技术 动态 运动模糊核 移动平台 像素 图像处理算法 投影物镜 光敏材料 紫外光源 透镜组 纳米 反射镜 芯片 直线
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