摘要
本发明提供基于联邦学习的芯片制造过程参数优化方法及系统,涉及芯片技术领域,包括通过采集多工厂工艺参数和良率数据,利用小波变换和双重评价筛选关键参数,构建深度Q网络模型;基于工艺轨迹相似度进行族群划分,采用差分隐私和同态加密保护数据安全,通过注意力机制和知识蒸馏实现族群优化;设置三级时间窗口监测良率,动态调整优化策略。本发明可有效提升芯片制造良率,保护数据隐私,实现工艺参数的智能优化。
技术关键词
深度Q网络
动态时间规整算法
族群
芯片
良率
关键工艺参数
元学习方法
策略
参数优化方法
滑动时间窗口
加密
矩阵
密度
注意力机制
高斯混合模型
轨迹
差分隐私
系统为您推荐了相关专利信息
换能元件
NTC热敏电阻
陶瓷电极
Cr薄膜
延长贮存时间
WIFI模块
飞机起落架
视觉检测模块
双目测距算法
传感器模块
发光二极管显示装置
发光二极管显示面板
倒装封装结构
输出线
发光信号控制电路
驱动芯片
状态机
保护单元
控制系统
生成驱动信号
状态识别方法
制冷机房
亚健康
强化学习模型
损失函数优化