一种基于Halcon的晶圆套刻误差测量方法

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一种基于Halcon的晶圆套刻误差测量方法
申请号:CN202510158539
申请日期:2025-02-13
公开号:CN119620564B
公开日期:2025-07-11
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于Halcon的晶圆套刻误差测量方法,属于计算机图形学技术领域。该方法基于Halcon软件提供的算子功能,首先从晶圆图像中提取套刻误差标记不同区域的图像,并基于该图像生成对应的模版。对于套刻误差待测量的晶圆图像,利用套刻误差标记模版寻找对应的套刻误差标记区域,实现亚像素级别的套刻误差测量,从而计算不同层间的偏移量。本方法显著提高了测量精度和效率,能够适应多种复杂的芯片场景。通过分步的模版搜索,有效降低了测量过程中的误差干扰和计算成本。本方法在多种芯片环境下表现优异,对单张晶圆图像的测量时间小于一秒,提供了一种高效、可靠的套刻误差测量解决方案,具有广泛的工业应用前景。
技术关键词
误差测量方法 套刻误差 标记 Halcon软件 矩形 模版 计算机图形学技术 坐标 矩阵 晶圆 外轮廓线 线段 顶点 图片 图像增强 模板 滤波器 芯片
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