基于自适应控制的超高精度微球一体化研抛方法及系统

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基于自适应控制的超高精度微球一体化研抛方法及系统
申请号:CN202510168323
申请日期:2025-02-17
公开号:CN119609778A
公开日期:2025-03-14
类型:发明专利
摘要
本发明涉及研抛参数调控技术领域,一种基于自适应控制的超高精度微球一体化研抛方法及系统,包括:构建研抛平台,根据研抛参数及利用研抛平台,得到研磨微球,对研磨微球进行研磨进程分析,得到研磨进程因子,判断研磨进程因子是否小于标准进程因子,若不小于,则得到完全研磨参数组,若小于,则计算研磨损伤因子,判断研磨损伤因子是否小于标准损伤因子,若小于,则得到进程研磨参数组,若不小于,则得到损伤研磨参数组,根据完全研磨参数组、进程研磨参数组及损伤研磨参数组构建自适应控制模型。本发明可提高超高精度微球一体化研抛的精准度及效率。
技术关键词
研磨轮廓 微球 因子 研抛方法 进程 像素点 图像 曲线 精度 标记 平台 电主轴 超声波 参数调节模块 坐标 模型训练模块 旋转体
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