一种避免对焦偏移的晶圆测试方法

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一种避免对焦偏移的晶圆测试方法
申请号:CN202510182694
申请日期:2025-02-19
公开号:CN120015645A
公开日期:2025-05-16
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种避免对焦偏移的晶圆测试方法,涉及晶圆测试技术领域,包括步骤:S1、晶圆准备;S2、自动对焦与成像;S3、缺陷检测;S4、数据处理与分析;S5、自动化测试与记录;S6、结果评估。该避免对焦偏移的晶圆测试方法,能够全面测试多种缺陷类型,不仅针对表面缺陷类型,对于一些微小的内部缺陷和复杂的缺陷模式,也能够精准捕捉,使得晶圆测试结果更加准确,并配合自动对焦与成像,能在成像过程中,对成像设备进行动态调整,确保测试探针始终准确接触晶粒上的接点,从而避免对焦偏移对测试结果造成影响,进一步提升了测试结果的准确性,有效降低晶粒误判的可能,进而规避了因误判而影响最终产品质量的情况。
技术关键词
测试方法 评估芯片 机器学习分类 模式识别算法 成像设备 电子束检测设备 探针 机器学习算法 光学显微镜 X射线检测技术 X射线检测设备 信号 自动化测试设备 晶圆测试技术 统计模式识别 探测器
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