基于等式约束拉丁超立方采样的非球面光学元件传感器布局方法

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基于等式约束拉丁超立方采样的非球面光学元件传感器布局方法
申请号:CN202510182967
申请日期:2025-02-19
公开号:CN120105707A
公开日期:2025-06-06
类型:发明专利
摘要
本发明属于传感测量技术领域,涉及一种基于等式约束拉丁超立方采样的非球面光学元件传感器布局方法,包括获取非球面光学元件的尺寸及其表面控制方程、增加正负余量将控制方程扩充为不等式采样空间、不等式采样获取空间均匀分布样本、可行性逼近,从而获得传感器的布局位置。本发明通过增加正负余量将控制方程扩充为不等式采样空间,可以有效解决等式约束难以进行拉丁超立方采样的问题。本发明利用不等式采样获取空间均匀分布样本,通过对两次蒙特卡洛采样后的样本进行空间划分与拉丁超立方采样,再利用约束模拟退火算法进行优化,有效避免了直接进行优化的高算力消耗问题,兼顾模型的高保真性与高运行效率。
技术关键词
非球面光学元件 拉丁超立方采样 传感器布局方法 蒙特卡洛 方程 模拟退火算法 采样点 样本 规划 尺寸 序列 顶点 坐标 定义 基础
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