基于岭回归算法的半导体工艺工程数据的拟合方法、设备、介质及产品

本申请涉及半导体制造技术领域，公开了一种基于岭回归算法的半导体工艺工程数据的拟合方法、设备、介质及产品。该方法包括：采集历史数据，构建数据集；建立岭回归模型，并进行初始化；其中，岭回归模型包括正则化强度超参数；利用交叉熵损失函数确定正则化强度超参数的最佳值；在正则化强度超参数取最佳值的情况下，利用数据集对岭回归模型进行训练，得到岭回归模型的各个参数的取值，以得到训练后的岭回归模型，用以进行半导体工艺工程数据的拟合。通过采用本方案，可以通过引入岭回归模型，有效解决了自变量之间高度相关性导致的回归系数不稳定问题。通过优化交叉熵损失函数，确定了最佳的正则化强度，提高了回归系数的稳定性。