光学临近修正优化方法、装置、存储介质及电子设备

本申请公开了一种光学临近修正优化方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该光学临近修正优化方法包括对原始版图进行分析，以确定原始版图中的待优化区域；将待优化区域中修正图层与目标图层之间的距离定义为修正变量；将所有修正变量的边缘位置误差的均方根误差定义为目标评价函数；基于目标评价函数，采用退火算法对所有修正变量进行优化，以得到目标修正变量组合；利用目标修正变量组合对原始版图进行修正，得到目标版图。本方案避免由于修正变量相互影响而产生的缺陷图形。