摘要
本发明公开一种芯片表面镀制薄膜装置及其使用方法,属于芯片镀膜技术领域,包括:沉积室,沉积室内固接有放置架,放置架上转动连接有转盘,转盘上开设有若干通孔,通孔内用于安放芯片,放置架上设置有驱动组件,驱动组件驱动转盘转动从而带动芯片翻转,改变芯片沉积面的沉积方向和沉积角度;蒸发裂解室,蒸发裂解室内用于放置镀材,并使蒸发裂解后的镀材进入沉积室内。本发明可带动若干芯片同步转动,改变芯片沉积面的沉积方向和沉积角度,确保芯片两面镀膜的均匀分布,避免局部过厚或过薄的情况,保障镀膜质量。
技术关键词
镀制薄膜
沉积室
芯片
驱动组件
超声波清洗机
真空干燥机
电子束蒸发器
驱动转盘
防护壳
锥齿轮
引风机
镀膜技术
通孔
真空泵
加热设备
管状结构
催化剂
滤芯
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