一种基于掩膜修复的电路板双模态缺陷样本生成方法

本发明公开一种基于掩膜修复的电路板双模态缺陷样本生成方法，首先生成掩膜，将其与电路板图像相加，生成掩模图像；掩模图像输入掩膜修复模块生成掩膜修复图像，同时掩膜图像输入边缘生成模块生成缺陷边缘图像；接着将掩膜修复图像和缺陷边缘图像输入带有边缘注意力模块的缺陷生成网络中生成缺陷图像；最后以生成的电路板缺陷图像作为条件，生成对应的电路板缺陷深度图。本发明通过基于掩膜修复的网络架构实现了高质量的电路板双模态缺陷样本的生成，生成的缺陷具有多样性和真实性，从而解决了目前电路板缺陷样本稀少影响基于深度学习的缺陷检测算法研发的问题。