一种可见光双波长偏振复用超表面全息图及其制备方法

本发明公开一种可见光双波长偏振复用超表面全息图及其制备方法，涉及微纳制造技术领域。所述超表面全息图包括：基于纳米压印技术，由x方向和y方向周期均为450nm、高度均为800nm的超原子阵列构成；在所述超原子阵列中，所有超原子均为长方体柱状结构，且主体由掺有二氧化钛纳米颗粒的聚合物构成；各所述超原子的尺寸和位置根据GS算法确定；所述GS算法用于计算目标图像在对应波长偏振光下的相位信息；所述波长偏振光包括532nm的X偏振光和671nm的Y偏振光。本发明能够解决传统超表面器件制造工艺周期长、规模小、成本高等问题，并且为基于超表面全息术的多色成像技术提供新的开发思路。