基于信息论的光刻成像保真度增强方法与系统

本发明公开了基于信息论的光刻成像保真度增强方法与系统，通过分析光刻中掩模及晶圆像的图形学特性，对像素密度进行统计，构建了一种光刻信息学模型及系统。应用该模型及系统可以给出掩模的最优概率分布以及计算光刻算法成像精度的理论极限。同时，本发明基于该模型及系统提供了一种计算光刻技术的改进方法，根据掩模的最优概率分布指导掩模的更新迭代，该算法有助于提升计算光刻算法的收敛精度。本发明可以增强光刻成像保真度，提升计算光刻算法的收敛精度，为先进节点下计算光刻技术的优化提供理论依据。