一种放射性同位素敷贴规划方法及装置

本发明属于图像处理技术领域，提供了一种放射性同位素敷贴规划方法及装置，该方法包括步骤：获取人体的三维图像，并以此获得三维图像中的患区；将至少一个二维形状移动至三维图像上，并根据三维图像将患区覆盖，以使二维形状形成三维形状；在三维形状下计算形状内的患区轮廓坐标，而后将患区轮廓坐标展开至二维空间上的坐标，其在二维空间上的坐标被表示为敷贴器的制备参数。本发明的优点在于可以实现在三维空间下敷贴形状的识别和轮廓的生成，提高了敷贴器轮廓的精度，以此保证根据规划制备出来的敷贴器在患者身上非常贴合。