一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法及系统

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正文
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一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法及系统
申请号:CN202510254153
申请日期:2025-03-05
公开号:CN119738959B
公开日期:2025-05-09
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法及系统,推导基模高斯光束通过双焦光学系统后的轴上的光强分布公式;并得到基模高斯光束通过双焦光学系统后的轴上的光强分布图;将轴上的光强分布图划分为若干个区间,分别对轴上的光强分布图的轴向上的每个区间取中值,以每个区间的中值作为相应区间的光强值;创建光强矫正模型,并实时测量若干指定点的光强值和计算若干指定点相应的理论光强值,将实时测量若干指定点的光强值和相应的理论光强值输入光强矫正模型进行训练,再将每个区间的中值输入光强矫正模型,输出每个区间中值的矫正值;并基于矫正后的中值与预设标准值的差值对每个区间进行光强补偿处理,提高了光学系统的稳定性。
技术关键词
光强 矫正模型 系统优化方法 端点 双焦光学系统 光束 模块 深度信念网络模型 理论 梯度下降算法 透镜 波长 传播算法 关系 广义 参数
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