一种用于石英晶体的高精度双面同步刻蚀系统及方法

本发明涉及石英晶体双面刻蚀技术领域，公开了一种用于石英晶体的高精度双面同步刻蚀系统及方法，该方法包括：获取所述石英晶体刻蚀时第一刻蚀面的刻蚀信息和第二刻蚀面的刻蚀信息，根据所述刻蚀枪的同步运行数据和相邻时段所述刻蚀枪的同步运行数据，获取数据差异值，根据各所述刻蚀枪的历史同步运行数据，确定数据差值阈值，根据所述数据差值阈值对所述数据差异值进行筛选，并基于高斯混合模型获取筛选后数据异常值，根据所述数据异常值，确定两所述刻蚀枪的同步运行时是否为异常状态。根据所述两所述刻蚀枪的同步运行数据以及石英晶体的内部应力，对异常状态的刻蚀枪进行调整。本发明有效提升石英晶体双面刻蚀时的效率和精度。