摘要
本发明公开了一种基于ALD镀膜的光芯片及其制备方法,其中,基于ALD镀膜的光芯片,包括:基底,基底上设置有凹槽结构,凹槽结构的表面设置有光学膜层,基底上设置有光学膜层的区域为光波导镀膜区,基底上凹槽结构以外未设置光学膜层的区域为非镀膜区。本发明公开一种基于ALD镀膜的光芯片及其制备方法;通过ALD镀膜技术在微结构表面沉积光学膜层达到一定的光学性能,保证膜层在微结构区域的有效沉积,满足光芯片对光信号的多种需求。
技术关键词
ALD镀膜
凹槽结构
基底
薄膜沉积法
光芯片
光刻胶
微结构表面
真空蒸镀法
光波导
磁控溅射法
原子层沉积
光学膜
反射率
溶胶
凝胶
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