一种基于ALD镀膜的光芯片及其制备方法

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一种基于ALD镀膜的光芯片及其制备方法
申请号:CN202510273613
申请日期:2025-03-10
公开号:CN120178423A
公开日期:2025-06-20
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于ALD镀膜的光芯片及其制备方法,其中,基于ALD镀膜的光芯片,包括:基底,基底上设置有凹槽结构,凹槽结构的表面设置有光学膜层,基底上设置有光学膜层的区域为光波导镀膜区,基底上凹槽结构以外未设置光学膜层的区域为非镀膜区。本发明公开一种基于ALD镀膜的光芯片及其制备方法;通过ALD镀膜技术在微结构表面沉积光学膜层达到一定的光学性能,保证膜层在微结构区域的有效沉积,满足光芯片对光信号的多种需求。
技术关键词
ALD镀膜 凹槽结构 基底 薄膜沉积法 光芯片 光刻胶 微结构表面 真空蒸镀法 光波导 磁控溅射法 原子层沉积 光学膜 反射率 溶胶 凝胶
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