一种氮化镓基Micro-LED中P型欧姆接触电极及其制备方法

AITNT
正文
推荐专利
一种氮化镓基Micro-LED中P型欧姆接触电极及其制备方法
申请号:CN202510309270
申请日期:2025-03-17
公开号:CN120344050A
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种氮化镓基Micro‑LED中P型欧姆接触电极及其制备方法,属于半导体技术领域。该方法包括以下步骤:对蓝宝石基氮化镓外延片进行无机清洗(H2SO4:H2O2=3:1),光刻形成传输线模型图案,电子束蒸镀5nm镍/5nm金双层电极,金属剥离后,进行氧气气氛下的快速退火(200℃预热30s,500℃退火60s)。通过传输线模型测试,计算得到比接触电阻率低至2.495×10‑5Ω·cm2。本发明通过优化退火工艺参数(温度、时间、氧气流量),显著降低Ni/Au与p‑GaN的接触电阻,提升Micro‑LED的电学性能和发光效率,适用于高密度显示器件制造。
技术关键词
欧姆接触电极 传输线模型 氮化镓外延片 外延片表面 退火工艺 显示器件 金合金 氧气 光刻 气氛 电子束 图案 异丙醇 高密度 丙酮 电阻 溶液 间距 参数
系统为您推荐了相关专利信息
1
一种基于组织结构及力学性能的容器箔退火优化工艺
容器箔材料 力学性能参数 退火工艺 组织 指数
2
一种热锻模增材再制造失效区域快速去除方法
有限元仿真分析 热锻模具 有限元分析技术 球化退火工艺 清理技术
3
一种VCSEL芯片金属蚀刻方法
金属蚀刻方法 VCSEL芯片 外延片表面 蚀刻气体 电感耦合等离子体
4
一种锂离子电池在浸润阶段的副反应判断方法及系统
锂离子电池注液 曲线 判断方法 电池结构 判断系统
5
芯片电路板的生产质量检测方法及相关设备
芯片电路板 信号完整性分析 三维模型 关键特征点 X射线技术
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号