摘要
本发明公开了一种氮化镓基Micro‑LED中P型欧姆接触电极及其制备方法,属于半导体技术领域。该方法包括以下步骤:对蓝宝石基氮化镓外延片进行无机清洗(H2SO4:H2O2=3:1),光刻形成传输线模型图案,电子束蒸镀5nm镍/5nm金双层电极,金属剥离后,进行氧气气氛下的快速退火(200℃预热30s,500℃退火60s)。通过传输线模型测试,计算得到比接触电阻率低至2.495×10‑5Ω·cm2。本发明通过优化退火工艺参数(温度、时间、氧气流量),显著降低Ni/Au与p‑GaN的接触电阻,提升Micro‑LED的电学性能和发光效率,适用于高密度显示器件制造。
技术关键词
欧姆接触电极
传输线模型
氮化镓外延片
外延片表面
退火工艺
显示器件
金合金
氧气
光刻
气氛
电子束
图案
异丙醇
高密度
丙酮
电阻
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