发射率可调薄膜设计方法、装置及终端设备

本发明提供一种发射率可调薄膜设计方法、装置及终端设备，涉及光子晶体设计技术领域。该方法包括获取第一目标薄膜的设计参数，并根据设计参数及折射率矩阵，得到第一输入特征；将第一输入特征输入预先训练完成的发射率预测模型，得到第一目标薄膜的发射率；获取第二目标薄膜的目标发射率，并基于AutoFeatRegressor特征工程，得到第二输入特征；将第二输入特征输入预先训练完成的设计参数预测模型，得到第二目标薄膜的设计参数。本发明设计发射率预测模型及设计参数预测模型，可以实现发射率到设计参数的双向预测，基于此可快速准确地提出设计方案，节省人力物力，降低了薄膜设计难度。