摘要
本发明适用于光学技术领域,尤其涉及一种光调制板及其制作方法、X射线关联成像设备,所述制作方法包括以下步骤:根据调制图样中各调制单元的尺寸参数确定最小结构单元;根据所述最小结构单元的尺寸参数,将各调制单元划分为由最小结构单元构成的一系列调制单元结构;对划分后的各最小结构单元进行修正,制成样板;参照样板在基板上进行调制图样的刻蚀,制得光调制板。本发明提供的一种光调制板的制作方法,通过对调制图样进行修正,将其中的大尺寸结构改为一系列不相连的小尺寸结构,可以使整个光调制板以相同的速度刻蚀,使每个调制单元与调制图样的偏差降到最低,能够得到与设计的调制图样差异更小的光调制板。
技术关键词
光调制板
结构单元
成像设备
图样
透射光
探测器
待测物体
基板
尺寸
电镀法
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参数
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