摘要
本发明公开了一种OPC修正模型的建模方法及基于该建模方法建立的OPC修正模型对待修正图形进行OPC修正的OPC修正方法,通过建立具有不同图形密度的OPC测试图形并进行晶圆光刻工艺得到不同图形密度下其对应的实际图形CD值并计算实际值与预设值之间的差值并绘制关系曲线,得到不同图形密度下偏差值修正表并建立OPC修正模型及偏差值修正表;OPC修正方法基于所建立的OPC修正模型先对待修正图形进行预扫描获取待修正图形的图形密度,根据该图形密度在OPC修正模型中匹配到该待修正图形的修正量,再返回进行OPC修正,基于修正后的OPC图形进行工艺实施;本发明OPC建模及OPC修正既引入了基于图形密度的修正参数,但图形密度参数并不直接作为建模及修正时的第三维度参与计算,降低了计算量。
技术关键词
建模方法
OPC修正方法
局部图形密度
表格
OPC修正系统
光学临近修正模型
位置偏差值
建立OPC模型
版图图形
晶圆光刻工艺
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OPC技术
光刻胶图形
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