OPC修正模型的建模方法及OPC修正方法

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OPC修正模型的建模方法及OPC修正方法
申请号:CN202510340312
申请日期:2025-03-21
公开号:CN120370632A
公开日期:2025-07-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种OPC修正模型的建模方法及基于该建模方法建立的OPC修正模型对待修正图形进行OPC修正的OPC修正方法,通过建立具有不同图形密度的OPC测试图形并进行晶圆光刻工艺得到不同图形密度下其对应的实际图形CD值并计算实际值与预设值之间的差值并绘制关系曲线,得到不同图形密度下偏差值修正表并建立OPC修正模型及偏差值修正表;OPC修正方法基于所建立的OPC修正模型先对待修正图形进行预扫描获取待修正图形的图形密度,根据该图形密度在OPC修正模型中匹配到该待修正图形的修正量,再返回进行OPC修正,基于修正后的OPC图形进行工艺实施;本发明OPC建模及OPC修正既引入了基于图形密度的修正参数,但图形密度参数并不直接作为建模及修正时的第三维度参与计算,降低了计算量。
技术关键词
建模方法 OPC修正方法 局部图形密度 表格 OPC修正系统 光学临近修正模型 位置偏差值 建立OPC模型 版图图形 晶圆光刻工艺 线条 OPC技术 光刻胶图形
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