MLCC电容的电镀质量监测方法、装置、设备和介质

MLCC电容的电镀质量监测方法、装置、设备和介质，涉及MLCC电容电镀技术领域。电镀质量监测方法首先采用X射线断层扫描和电化学阻抗谱技术获取镀层微观结构及离子迁移数据，结合外观检测数据进行缺陷分类；获取电镀工艺参数，通过主成分分析构建多维度特征库。然后基于缺陷分类结果与特征库，训练改进型随机森林模型实现多缺陷预测，并通过敏感度排序筛选关键工艺参数，建立缺陷‑参数关联；再然后构建归因模型解析工艺参数对缺陷的影响机制。实际生产中，将实时工艺参数输入预测模型进行在线质量监控；当出现缺陷时，通过归因模型逆向追溯致因参数。该方法形成数据采集、特征融合、实时监测、缺陷溯源的体系，能够有效监测电镀质量。