一种提高晶圆缺陷对比度的光学检测配置优化方法及系统

本发明属于半导体制造相关技术领域，并公开了一种提高晶圆缺陷对比度的光学检测配置优化方法及系统。该方法包括下列步骤：对带有缺陷的晶圆三维模型在预设照明配置参数下进行仿真模拟成像，通过调整预设照明配置参数改变评价函数，该评价函数最大时对应的预设照明配置参数为最优照明配置参数；在最优照明配置参数下，在对所述带有缺陷的晶圆三维模型进行仿真模拟成像时增加光阑进行滤波，以评价函数最大为目标求解光阑参数最优值；所述最优照明配置参数和光阑参数最优值即为所需的光学检测的配置。通过本发明，解决传统明场缺陷检测对比度有限且检测能力不足的问题。