摘要
本申请实施例提供一种晶圆级芯片切分方法,涉及硅光晶圆级芯片技术领域。晶圆级芯片方法包括:提供晶圆(101);在晶圆(101)的图形面涂光刻胶(103),通过曝光显影的方式,将用于芯片分离的切割道(102)暴露出来,同时光刻胶(103)将其他区域的图层保护起来;使用干法或湿法蚀刻,刻蚀切割道(102)至设定深度,设定深度小于最终芯片厚度;在晶圆(101)的背面覆盖扩张性膜(105),对晶圆(101)进行激光隐形切割,得到多个单颗芯片。切割不易出现崩边、破裂等损伤,形成的侧面形貌平整,最终得到较高的良品率。
技术关键词
激光隐形切割
芯片
晶圆
光刻胶
胶带
保护膜
紫外光
干法
加热盘
蚀刻
探头
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