一种基于双域几何结构和空间先验深度展开的磁共振指纹重建方法

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一种基于双域几何结构和空间先验深度展开的磁共振指纹重建方法
申请号:CN202510456102
申请日期:2025-04-11
公开号:CN120388088A
公开日期:2025-07-29
类型:发明专利
摘要
一种基于双域几何结构和空间先验深度展开的磁共振指纹重建方法,本发明涉及磁共振指纹成像技术领域。本发明包括以下步骤:(1)获取磁共振指纹欠采样k空间数据;(2)建立基于指纹域流形结构先验与组织特性域稀疏先验的磁共振指纹重建模型;(3)利用主导最小化和近端梯度算法迭代求解重建模型;(4)采取有效策略获得其中近端映射子问题的闭式解,并将所有迭代步骤展开到深度神经网络;(5)利用已有数据训练网络,得到网络模型;(6)利用训练好的网络重建磁共振指纹以及多种组织参数图。本发明通过展开网络充分利用指纹数据结构化的几何信息以及组织参数图的空间特征,可以在数据高倍欠采样情况下呈现优越的重建效果。
技术关键词
磁共振指纹 结构先验 稀疏先验 深度神经网络 组织 投影模块 梯度算法 磁共振扫描仪 数据 可读存储介质 正则化参数 稀疏特征 重建系统 解码器 迭代算法
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