摘要
本申请涉及半导体芯片衬底材料及制造领域,公开了一种外延分区集成的射频前端芯片及其制作方法,其中,所述射频前端芯片包括衬底层、缓冲层和外延层,外延层包括多个外延分区,射频前端芯片至少集成有功率放大器、低噪声放大器、射频开关和压电滤波器,缓冲层设于衬底层之上,外延层设于缓冲层之上,各个外延分区任意排列于外延层,外延分区的下表面与缓冲层的上表面相接;功率放大器、低噪声放大器、压电滤波器分别位于不同的外延分区,低噪声放大器与射频开关位于相同的外延分区,并且功率放大器、低噪声放大器和压电滤波器各自所处的外延分区的材料不同。本申请一个或多个实施方式提供的技术方案,可以实现射频前端芯片的高度集成。
技术关键词
射频前端芯片
外延
压电滤波器
低噪声放大器
分区
功率放大器
射频开关
金属结构
单晶硅
光刻胶层
衬底层
双工器
半导体芯片衬底
涂覆光刻胶
二氧化硅
砷化镓材料
缓冲层
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