摘要
本发明公开了基于残差图神经网络的光学邻近效应校正方法与系统,通过将掩模表示为图结构数据并采用与基于模型的OPC(model‑based OPC,简称MBOPC)迭代过程具有相似结构的ResGNN,构建了一种快速的MBOPC计算方法。作为数据驱动方法,与基于迭代的MBOPC方法相比,本发明提供的方法可以显著提高计算效率。同时,该ResGNN模型的结构使其既可以更好地体现MBOPC的迭代过程的物理特性,又可以应对图神经网络层数增加时出现的梯度消失问题,最终实现对训练数据更好的拟合。本发明可以提升MBOPC过程的计算效率,提升先进节点下光刻生产的生产效率。
技术关键词
光学邻近效应
节点特征
切片
数据建模方法
光刻胶模型
神经网络优化器
校正系统
多层感知机
边缘轮廓
切割掩模
掩模版图
掩模图形
投影物镜
奇异值分解方法
系统为您推荐了相关专利信息
数据配准方法
图像配准模型
生物组织切片
质谱
病理切片扫描仪
连续碳纤维
检测传感器
定制方法
三维模型
打印设备
多尺度特征融合
跨模态
编码器模块
多层感知机
图像分割模型
节点识别方法
大脑磁共振图像
网络
功能磁共振成像
脑成像数据
分子结构特征
关联关系预测方法
序列特征
基因
中草药