一种预测分子晶体辐照化学损伤程度的方法

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一种预测分子晶体辐照化学损伤程度的方法
申请号:CN202510474733
申请日期:2025-04-16
公开号:CN120388651A
公开日期:2025-07-29
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种预测分子晶体辐照化学损伤程度的方法,通过数据准备,并构建训练数据集,其中离位原子数和分子分解数量作为待预测的目标变量,对数据进行预处理,预处理后通过XGBoost构建分子晶体辐照化学损伤的预测模型,根据XGBoost计算每个特征对模型预测的贡献度,并使用SHAP方法对每个特征的贡献进行计算特征交互效应,得到辐照敏感分子基团数据。本发明的有益效果:突破传统经验模型单一能量标度的限制,通过跨尺度特征融合与模型可解释性分析,可揭示分子基团、键离解能等关键损伤敏感因子,该技术推动辐照损伤预测从经验公式向智能计算范式转型,为空间电子器件寿命评估、核反应堆材料设计、含能分子结构优化等需求提供跨学科解决方案。
技术关键词
分子 缺陷预测 跨尺度特征融合 核反应堆材料 化学式 软件包 特征工程 非数值特征 带温度 蒙特卡洛方法 交叉验证方法 构建预测模型 异常数据 随机森林模型 字符 超参数 基团 线性 变量
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