智能识别缺陷深度的装置和方法

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智能识别缺陷深度的装置和方法
申请号:CN202510480694
申请日期:2025-04-16
公开号:CN120545204A
公开日期:2025-08-26
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种智能识别缺陷深度的装置,包括:运行逻辑模块,SEM机台,第一神经网络。运行逻辑模块用于在智能识别缺陷深度时控制SEM机台和第一神经网络的运行。在智能识别缺陷深度时,SEM机台对晶圆上缺陷所在第一芯片的缺陷位置进行不同电压下的SEM拍摄并得到一系列的第一SEM图片。第一神经网络对各第一SEM图片进行特征因素提取并根据提取的特征因素识别出缺陷所在的临界层。第一神经网络还对临界层对应的第一SEM图片和数据库的图片进行比较以识别出临界层对应的膜层,数据库包括了晶圆的各膜层的图片数据。本发明还公开了一种智能识别缺陷深度的方法。本发明能实现缺陷深度的自动识别,减少人为因素干扰,增大精准度并缩短缺陷分析判断时间。
技术关键词
识别缺陷 图片 自动缺陷分类 逻辑模块 芯片 机台 电压 坐标 切片 晶圆 图像 参数 指令 数据
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